產(chǎn)品詳情
蔡司X射線顯微鏡Versa憑借優(yōu)異的大工作距離高分辨率(RaaD)的特性,成為了全球研究人員和科學(xué)家的“有力幫手”。在相對大工作距離下也能保持高分辨率,有助于產(chǎn)生意義非凡的科學(xué)見解和發(fā)現(xiàn)。隨著當(dāng)今技術(shù)的快速發(fā)展,對分析儀器也提出了更高的要求,而蔡司Xradia 600 Versa系列就是專為應(yīng)對這一挑戰(zhàn)而設(shè)計(jì)的。
蔡司X射線顯微鏡Xradia 610 & 620 Versa采用改進(jìn)的光源和光學(xué)技術(shù)
X射線計(jì)算機(jī)斷層掃描成像領(lǐng)域面臨的兩大挑戰(zhàn)是:實(shí)現(xiàn)大尺寸樣品和大工作距離下的高分辨率和高通量成像。蔡司推出的兩款X射線顯微鏡憑借以下優(yōu)勢解決了這些挑戰(zhàn):系統(tǒng)可提供高功率的X射線源,顯著提高X射線通量,從而加快了斷層掃描速度。工作效率提高達(dá)兩倍,而且不會影響空間分辨率。同時,X射線光源的穩(wěn)定性得到提升,使用壽命也更長。
主要特性包括:
?zui高空間分辨率500nm,zui小體素40 nm
?與蔡司Xradia 500Versa系列相比,工作效率提高兩倍
?更加簡便易用,包括快速激活源
?能夠在較大的工作距離下對更廣的樣品類型和尺寸的樣品進(jìn)行亞微米特征的觀察
更高的分辨率和通量
傳統(tǒng)斷層掃描技術(shù)依賴于單一幾何放大,而蔡司X射線顯微鏡Xradia Versa則將采用光學(xué)和幾何兩級放大,同時使用可以實(shí)現(xiàn)更快亞微米級分辨率的高通量X射線源。大工作距離下高分辨率成像技術(shù)(RaaD)能夠?qū)Τ叽绺?、密度更高的樣?包括零件和設(shè)備)進(jìn)行無損高分辨率3D成像。此外,可選配的平板探測器技術(shù)(FPX)能夠?qū)Υ篌w積樣品(重達(dá)25 kg)進(jìn)行快速宏觀掃描,為樣品內(nèi)部感興趣區(qū)域的掃描提供了定位導(dǎo)航。
實(shí)現(xiàn)新的自由度
運(yùn)用業(yè)界出色的3D X射線成像解決方案完成前沿的科研與工業(yè)研究 :憑借zui大化利用吸收和相位襯度,幫助您識別更豐富的材料信息及特征。運(yùn)用衍射襯度斷層掃描技術(shù)(LabDCT)揭示3D晶體結(jié)構(gòu)信息。先進(jìn)的圖像采集技術(shù)可實(shí)現(xiàn)對大樣品或不規(guī)則形狀樣品的高精度掃描。運(yùn)用機(jī)器學(xué)習(xí)算法,幫助您進(jìn)行樣品的后處理和分割。
優(yōu)異的4D/原位解決方案
蔡司Xradia 600 Versa系列能夠在可控環(huán)境下進(jìn)行材料3D無損微觀結(jié)構(gòu)表征的動態(tài)過程。憑借Xradia Versa在大工作距離下仍可保持高分辨率成像的特性,可將樣品放置到樣品艙室或高精度原位加載裝置中進(jìn)行高分辨率成像。Versa可與蔡司其它顯微鏡無縫集成,解決多尺度成像方面的挑戰(zhàn)。
蔡司 Xradia 610 Versa | 蔡司 Xradia 620 Versa | |
空間分辨率a | 500 nm | 500 nm |
大工作距離下的高分辨率 | 1.0 μm | 1.0 μm |
zui小可實(shí)現(xiàn)的體素c | 40 nm | 40 nm |
X射線源電壓范圍 | 30–160 kV | 30–160 kV |
X射線源zui大輸出功率 | 25 W | 25 W |
Scout-and-Scan?控制系統(tǒng) | ? | ? |
Scout-and-Zoom | ? | ? |
垂直拼接 | ? | ? |
XRM Python API | ? | ? |
自動X射線濾光片轉(zhuǎn)換器(AFC) | ? | |
高縱橫比斷層掃描(HART) | ? | |
雙掃描襯度可視化系統(tǒng)(DSCoVer) | ? | |
寬場模式 | 0.4x | 0.4x 和 4x |
蔡司LabDCT衍射襯度斷層掃描 | 選配 | |
蔡司自動進(jìn)樣裝置 | 選配 | 選配 |
原位接口套件 | 選配 | 選配 |
蔡司OptiRecon | 選配 | 選配 |
蔡司ZEN Intellesis | 選配 | 選配 |
ORS Dragonfly Pro | 選配 | 選配 |